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少量未處理的灰塵微?；蛘邭怏w分子可能嚴(yán)重影響一些工藝流程。請(qǐng)想象一下污染的空氣對(duì)半導(dǎo)體這種高度敏感的制造工藝流程可能產(chǎn)生什么樣的危害。
在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，前沿的生產(chǎn)技術(shù)需要潔凈度很高的空氣，而且這一潔凈度要求還在不斷提高。通常要求晶圓生產(chǎn)環(huán)境的灰塵粒徑要小于25nm（2009年），目前這一粒徑值還在減小，預(yù)計(jì)到2017年將減小到10nm。氣載分子污染物（AMC）也是高級(jí)晶圓廠關(guān)注的問(wèn)題。很多氣載分子污染物（AMC）都被證實(shí)會(huì)影響產(chǎn)品良率。例如，酸性氣體會(huì)腐蝕硬盤或晶圓，可凝性有機(jī)物的沉降和低濃度氨氣的存在會(huì)影響生產(chǎn)操作。
潔凈室的重心就是空氣過(guò)濾設(shè)備，根據(jù)不同的潔凈室類型，需要考慮使用不同的過(guò)濾設(shè)備。
憑借15年以上的微電子和半導(dǎo)體污染控制技術(shù)行業(yè)經(jīng)驗(yàn)以，嘉科能夠提供合理的潔凈空氣解決方案。使以下工藝得到保護(hù):
晶圓及半導(dǎo)體
微電子工藝設(shè)備
硬盤驅(qū)動(dòng)
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平板顯示
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